PVD处理的表带其表层的硬度可达HV2000以上,只要你手表带在手上,不与其它硬的物体摩擦 是不会磨损及掉色的,除非PVD不良或者是仿PVD技术。
在制造工艺中,TCO沉积在异质结电池沉积工艺后半部分,通过沉积TCO膜作为减反层和横向运载流子至电极的导电层,一般TCO沉积在PVD设备中通过溅射方式完成捷佳伟创选择的是反应等离子RPD技术,和双面进行薄膜沉积的PVD路线相比采用自下而上的单侧沉积技术,关键设备是等离子枪14 2020年9月,捷佳伟创完成。
PVD处理的表带其表层的硬度可达HV2000以上,只要你手表带在手上,不与其它硬的物体摩擦 是不会磨损及掉色的,除非PVD不良或者是仿PVD技术。
在制造工艺中,TCO沉积在异质结电池沉积工艺后半部分,通过沉积TCO膜作为减反层和横向运载流子至电极的导电层,一般TCO沉积在PVD设备中通过溅射方式完成捷佳伟创选择的是反应等离子RPD技术,和双面进行薄膜沉积的PVD路线相比采用自下而上的单侧沉积技术,关键设备是等离子枪14 2020年9月,捷佳伟创完成。
发表评论
◎欢迎参与讨论,请在这里发表您的看法、交流您的观点。